Produtos

Substrato de nitreto de silício
video
Substrato de nitreto de silício

Substrato de nitreto de silício

Material: Cerâmica Si3N4
Condutividade térmica: 85 W / mK
Densidade: 3,20 g / cm3
Cor: Cinza
Máx. Temperatura de uso: 1.200 graus C
Enviar inquérito
Introdução de Produto

O Substrato de Nitreto de Silício da UNIPRETEC é feito de cerâmica Si3N4. A fim de reduzir a poluição ambiental e criar uma economia verde, o uso eficiente da eletricidade tornou-se cada vez mais importante, o que também impõe requisitos mais elevados para substratos de dissipação de calor em dispositivos eletrônicos. As desvantagens dos substratos cerâmicos tradicionais, como AlN, Al2O3 e BeO, cada vez mais proeminentes, como menor condutividade térmica teórica e propriedades mecânicas pobres, têm prejudicado seriamente o seu desenvolvimento. Em comparação com os materiais de substrato de cerâmica tradicionais, a cerâmica de nitreto de silício se tornou gradualmente a nova escolha de material de dissipação de calor avançada para dispositivos eletrônicos devido à sua excelente condutividade térmica teórica e boas propriedades mecânicas.

No entanto, a condutividade térmica real da placa de Si3N4 é muito menor do que a condutividade térmica teórica, e alguns substratos de cerâmica de nitreto de silício de alta condutividade térmica (GG gt; 150 W / m · K) ainda estão em estágio de laboratório. Os fatores que afetam a condutividade térmica das cerâmicas de nitreto de silício incluem o oxigênio da rede, a fase do cristal e os limites dos grãos. Além disso, a transformação do tipo de cristal e a orientação do eixo do cristal também podem afetar a condutividade térmica do nitreto de silício até certo ponto. Como conseguir a produção em massa do substrato de cerâmica Si3N4 também é um grande problema.


Folha de dados técnicos

ITEM

UNIDADE

CS-Si3N4

Densidade

g / cm3

GG gt; 3,2

Cor

-

Cinza

Absorção de água

%

0

Warpage

-

GG lt; 2 ‰

Rugosidade da superfície (Ra)

hum

0.2 - 0.6

Força Flexural

Mpa

GG gt; 800

Condutividade térmica (25 ℃)

W/m.K

GG gt; 85

Coeficiente de expansão térmica (25 - 300 ℃)

10-6mm / ℃

2.7

Coeficiente de expansão térmica (300 - 800 ℃)

10-6mm / ℃

3.2

Máx. Temperatura de trabalho

℃

GG lt; 1.200

Rigidez dielétrica

KV / ㎜

GG gt; 15

Constante dielétrica

1 MHz

8-10

Resistividade elétrica (25 ℃)

Ω · cm

GG gt; 1014

∆ Os dados acima são oferecidos apenas para referência e comparação; os dados exatos variam de acordo com o método de fabricação e a configuração da peça.


Para resolver esses problemas, a UNIPRETEC tem se comprometido com a otimização contínua dos processos de preparação relacionados, e a condutividade térmica real da placa de nitreto de silício também está melhorando continuamente. A fim de reduzir o teor de oxigênio da rede, em primeiro lugar reduza o teor de oxigênio na seleção de matérias-primas. Por um lado, pó de Si com conteúdo de oxigênio relativamente pequeno pode ser usado como material de partida. Em terceiro lugar, a escolha de auxiliares de sinterização adequados também pode aumentar a condutividade térmica, reduzindo o teor de oxigênio. Além disso, ao adicionar cristais de semente e aumentar a temperatura de sinterização para promover a transformação da forma do cristal e ao aplicar um campo magnético para fazer os grãos crescerem na direção, a condutividade térmica pode ser melhorada até certo ponto. Para atender aos requisitos de tamanho de dispositivos eletrônicos, a UNIPRETEC usa um processo de fundição de fita para preparar folha de nitreto de silício, wafer, substrato.

Tag: substrato de nitreto de silício, China, fornecedores, fabricantes, fábrica

(0/10)

clearall