AlN Substrato Cerâmico

O substrato cerâmico AlN tem excelente condutividade térmica, baixa constante dielétrica e perda dielétrica e desempenho de isolamento confiável; além disso, o substrato de AlN também tem excelentes propriedades mecânicas, não tóxico, resistência a altas temperaturas e resistência à corrosão química. O substrato de cerâmica AlN (nitreto de alumínio) tem um coeficiente de expansão térmica semelhante ao do silício. Como um novo material cerâmico, o nitreto de alumínio tem atraído cada vez mais a atenção de engenheiros e pesquisadores. A placa de cerâmica AlN produzida por nossa empresa é amplamente utilizada em dispositivos de comunicação, LED de alto brilho, dispositivos eletrônicos de potência e outras indústrias. É um material cerâmico eletrônico de excelente desempenho. A seguir estão as características de nossa placa AlN:

(1) Alta condutividade térmica, 5 a 10 vezes maior que a cerâmica de óxido de alumínio, equivalente ao óxido de berílio (BeO) altamente tóxico;

(2) O coeficiente de expansão térmica (4,3 x 10^-6/ ℃) corresponde ao material de silício semicondutor (3,5-4,0 x 10^-6/℃);

(3) Boas propriedades mecânicas, maior resistência à flexão do que cerâmicas BeO e próximo à alumina;

(4) Excelente desempenho elétrico, resistência de isolamento extremamente alta e baixa perda dielétrica;

(5) A compatibilidade dos materiais do circuito é boa, a fiação de múltiplas camadas pode ser realizada e a alta densidade e miniaturização do pacote podem ser realizadas;

(6) Não tóxico e benéfico para a proteção ambiental.

Aplicações Típicas

Propriedades do material (AlN)

O substrato de folha de AlN produzido pela UNIPRETEC Ceramic Technology tem excelentes propriedades térmicas, mecânicas, elétricas, alta condutividade térmica, alta resistência e outras excelentes características. Com o rápido desenvolvimento de equipamentos e dispositivos microeletrônicos, os substratos de nitreto de alumínio AlN têm sido amplamente utilizados. Qualquer consulta ou contato seria muito bem-vindo.

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